當(dāng)前位置：首頁(yè) > 產(chǎn)品展示 > C系列氣相沉積爐
聯(lián)系我們
熱誘導(dǎo)化學(xué)氣相沉積是用于各種電介質(zhì),半導(dǎo)體和金屬材料的保護(hù)涂層的沉積的有力方式，無論是單晶，多晶，無定形或外延狀態(tài)上或大或小的形態(tài)。典型的涂層材料包括熱解碳，碳化硅，氮化硼。通過使用合成前體，涂層非常純凈并目滿足半導(dǎo)體工業(yè)的典型要求，根據(jù)工藝參數(shù)，可以有多種層厚度，從單個(gè)或幾個(gè)原子層到厚度從10納米到數(shù)百微米的固體保護(hù)層或功能層，以及厚度達(dá)100微米的單片部件，甚至高達(dá)數(shù)毫米。
產(chǎn)品
聯(lián)系
電話：13311665350
郵箱：service@haoyue-group.com
地址：上海市嘉定區(qū)嘉松北路7301號(hào)B2棟
工廠：江蘇省南通市通州區(qū)聚豐科創(chuàng)產(chǎn)業(yè)園1號(hào)廠房
留言
版權(quán)所有?2021上海皓越真空設(shè)備有限公司 備案號(hào)：滬ICP備2022033023號(hào)-3
service@haoyue-group.com
13311665350