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真空熱壓爐是一種在高溫和高壓環(huán)境下進行材料處理和加工的設(shè)備,它在許多領(lǐng)域中扮演著重要的角色。本文將介紹其原理、應(yīng)用以及其在材料加工領(lǐng)域中的優(yōu)勢。
真空熱壓爐的原理基于高溫和高壓下材料性質(zhì)的改變。通過創(chuàng)建真空環(huán)境,可以排除氧氣和其他雜質(zhì),避免材料的氧化反應(yīng)。同時,通過施加高壓,可以促使材料分子之間的結(jié)合更加緊密,提高材料的密度和力學性能。通常具有加熱系統(tǒng)、壓力系統(tǒng)和真空系統(tǒng)等關(guān)鍵組成部分。
在材料加工領(lǐng)域中具有廣泛的應(yīng)用。首先,它可用于粉末冶金制備過程中的燒結(jié)和熱壓。通過控制高溫和高壓條件,可以實現(xiàn)粉末顆粒的聚結(jié)和致密化,得到具有良好力學性能的材料。其次,在薄膜制備和涂層技術(shù)中也發(fā)揮重要作用。通過在真空環(huán)境下加熱和施加壓力,可以實現(xiàn)薄膜材料的均勻沉積和致密化,提高薄膜的質(zhì)量和附著力。此外,還可用于材料的退火、熱處理和晶體生長等過程。
真空熱壓爐在材料加工中的優(yōu)勢不可忽視。首先,由于真空環(huán)境的使用,可以減少材料與氧氣之間的相互作用,避免氧化反應(yīng)和污染物的介入,從而得到更純凈和穩(wěn)定的材料。其次,真空壓力可以使材料分子更加緊密地結(jié)合,提高材料的致密性和力學性能。此外,還具有優(yōu)異的溫度控制性能,可以實現(xiàn)精確的溫度梯度和溫度分布,滿足不同材料加工過程的需求。
編號 |
P2GR20 |
產(chǎn)品型號 |
VHPgr-20/20/30-2000 |
最高設(shè)計溫度( ℃ ) |
2000 |
加熱元件 |
等靜壓石墨 |
加熱功率(kW) |
45 |
壓頭材質(zhì) |
等靜壓石墨 |
測溫元件 |
鎢錸熱電偶 |
升溫速率 |
1~20℃/min |
溫度均勻性 |
±5℃(5點測溫,恒溫區(qū)1000℃保溫1h后檢測) |
爐膛尺寸 |
200x200x300 |
壓頭行程( mm ) |
100 |
壓頭開放高度( mm ) |
160 |
樣品直徑( mm ) |
Φ20~80 |
壓力(噸) |
30 |
加壓方式 |
下加壓,由下往上加壓 |
可充氣氛 |
氮氣/氬氣一路 |
冷態(tài)極限真空度( Pa ) |
6.7x10-3Pa(空爐、冷態(tài)、經(jīng)凈化) |
設(shè)備外形尺寸( mm ) |
1425x1550x1850mm(DxWxH) |
產(chǎn)品
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